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曾有美国教授指出,如果建造原子弹难度是1,那么中国造光刻机的难度是10,因此有不少人发出疑问,原子弹和光刻机到底哪个更难造?甚至有人说,为什么我们把原子弹都造出来了,为何还造不出光刻机呢?
这要说,这两者根本不具备可比性,以目前的技术来说,我们建造原子弹,自然已经不具备难度了,可是能否认原子弹是尖端技术吗?就在几十年前,更是世界最尖端技术的存在,我们建造出第一枚原子弹不难吗?科学家们,用算盘、手摇计算机、第一代电子管计算机算出核弹,能不难吗?难,只是以目前的技术来说,再看过去,难度好似降低了。
就说光刻机,在2,30年前技术还处于粗糙的阶段,如今的发展进入了高精端的领域,那么再经过5.60年,再看向光刻机技术,是否又会觉得这是一件普通到常见的技术了呢?
不论是从领域还是从难度等问题,都没有可比性,也没有意义,要说难,那都是难造的。
当初我们原子弹制造是从0到1的跨越,万丈高楼平地起,而光刻机要说,其实是从1到2的进程,只是目前我们没有办法研制高端光刻机,因此我们要做的,就是将高端技术走向高精端,只是这个过程并不容易了。
可是目前我们所能够知道的,高端的光刻机,比原子弹要极为稀有,这是不得不面对的事实。
为什么这样说呢?
在时间的推移下,拥有核武器,能够制造出核武器的国家已经达到9个之多,五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个,而全球的核弹数量相加,更是一个庞大的数字。
然而要说到能够制造光刻机的国家,那还是能数上几个的,可要说高端光刻机,要严格来说,那就只有荷兰了,根据数据显示,荷兰ASML公司是真正的全球光刻机龙头老大,以一家之力,占据全球91%的市场份额,足以可见其的实力有多强,虽然其的核心技术还主要属于美国和德国,但是真的是非常了不起了。
毕竟光刻机本就不是一个国家能独立建造的东西,是依靠着全球产业链的支持,进行供应而成。
那么这个光刻机到底为什么这么难造呢?
光刻机是用来制造芯片的核心装备,而芯片的重要性那就不言而喻了,而没有光刻机,我们就没有办法制造芯片,所以涉及到芯片,那么光刻机就是无法躲开的存在。
目前我国的国产光刻机,只能生产90纳米的芯片,就算我们能设计更为精细的芯片,可是没有光刻机一样造不出,目前我们要做的是突破28纳米的光刻机技术。
有句话说,芯片是微观制造工艺的极限。
那么将这个极限制造出来的光刻机,有多难非常明显了,而每一纳米的突破,都是极其难得,阿斯麦尔温彼得甚至还表示,中国不太可能独立造出顶尖光刻机。
要说最难的就是这3个点了。
1、光源
我们知道,目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了,而其使用的就是极紫外线,能够将光刻技术扩展到32nm以下。
然而在EUV光刻机面世之前,一直都是使用的DUV光刻机,使用的是短波紫外线,突破到极紫外线,一共花费了20年的时间才完成,可见对于光源的选择使用,其的难度是非常大的,没有捷径可走。
2、反射镜
反射镜听起来好像是一个比较常见的工具,然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术。
EUV多层膜反射镜是光学系统当中重要的元件,有了这个反射镜的存在,才能够时间EUV波段的高反射率,且精度要求是非常高,精度越高的东西越难造,显然这个反射镜就不是一个容易造的。
3、工作台
在芯片制造当中,需要工作台进行配合,而在芯片制造当中,工作台移动来帮助芯片的纹路刻蚀,因此工作台移动的精度越高,那么制作出来的芯片精度也就越高。
而ASML采用的则是一种激光干涉仪,精度非常高,有着位移测量的能力,可以实现出纳米级的同步运动,非常精密,这样的技术就是美国也没有办法做到。
可见光刻机的建造难度极大,而其的建造,也代表着现如今最完整的高尖端工业体系,代表的是一个国家真正的科技力量,和真正的工业实力,因此是不容小觑的。
这需要时间的沉淀,相信我国能够尽快完成28nm级光刻机,尽早做到自主芯片量产,再突破更为精细的光刻机。
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